專利名稱 | SEMICONDUCTOR DEVICE- A Low Cost and High Performance High-side NLDMOS Using N-buried Layer (NBL) and Lateral Linear Graded Doping Profile of N-drift Region |
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專利國別 | 美國 |
發表日期 | 2016/04/07 |
著作人 | 林詠章 (Lin Yongzhang) |
記事 | (01)楊紹明,(02)許健 |
登入 亞洲大學資訊工程學系
專利名稱 | SEMICONDUCTOR DEVICE- A Low Cost and High Performance High-side NLDMOS Using N-buried Layer (NBL) and Lateral Linear Graded Doping Profile of N-drift Region |
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專利國別 | 美國 |
發表日期 | 2016/04/07 |
著作人 | 林詠章 (Lin Yongzhang) |
記事 | (01)楊紹明,(02)許健 |